跟着华为mate60 pro的发布，欧美加大制裁的声浪又开端喧嚣，这些噪音，从
我国的技能见识日益闪现，特别是在中心技能范畴，我国现已取得了一些重要打破。需求咱们来重视的是，这些打破是建立在国内研讨和立异的根底上的。
早在2015年，我国的长春光机所就成功研制出了EUV（极紫外光刻）***的高精度弧形反射镜体系。这个体系的多层层镀膜面形差错小于0.1纳米，到达了EUV级***的规范。这个成果在国际上现已可谓顶尖水平。
但是，这套体系中存在一个小问题，即并非一切零部件都是国产的，其间的镀膜设备需求从海外购买。这一状况导致了体系的要害部分依靠进口，简单遭到外部制裁的影响。
为了处理这一难题，中科院控股企业北京中科科美在2021年7月成功研制出了镀膜精度控制在0.1纳米以内的直线式劳埃透镜镀膜设备以及纳米集合镜镀膜设备。这些零部件满意了长春光机所关于高精度弧形反射镜体系的技能要求。
随后，这些新的镀膜设备被供给给了长春光机所，使其能够马上制作出EUV级***等级的高精度弧形反射镜体系。这个成功事例标明，我国在EUV***范畴现已具有了自主研制和出产的才能，增强了对EUV***的决心。
EUV***技能本质上是一个工程问题，理论上并不存在困难。在我国，人才、需求、技能根底和工业根底都具有，仅有需求的是时刻和投入。这正是我国的优势地点。
现在，国内有三条首要的EUV***研制道路，它们采纳饱和式研制，不计本钱：
正统道路：这是ASML的EUV***道路，由华为、上海光机所和宇量昇等国内公司协作。他们选用了500瓦LPP（液体靶点光源）光源和杂乱的镜头组。这条道路的开展速度最快，但技能杂乱度也最高，特别是在超高功率和超高重复频率二氧化碳激光器方面的技能难度非常大。
改进型道路：由广东智能机器研讨院和华中科技大学协作，测验选用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方法，绕开了超高功率、超高重复频率二氧化碳激光器的技能道路。尽管成功与否尚不确认。
推翻式道路千瓦级SSMB-EUV光源，能够直接将***光源变成相似工业园中的电力、蒸汽、纯水等可购买质料。假如这条技能道路成功，将极大简化***光路，削减相关本钱，使EUV***变得更经济实惠。这条道路的成功有望成为我国***技能赶超ASML的要害。
从2020年10月国内发动加大投入加快研制以来，***研制取得了令人瞩目的开展。第一条技能道路的EUV***估计将比开端预期的时刻更快投入量产。第三条技能道路代EUV***的优势道路纳米芯片奠定了根底。
我国在EUV***技能范畴的持续投入和立异正在逐步完成打破，有望在未来几年内成为全国际抢先的EUV***制作国。这一成果将有望为我国半导体工业的开展和全球芯片商场的供给带来明显影响。
欧美等国也将面对来自我国工业链的竞赛应战，我国有望在半导体范畴锋芒毕露，持续推进技能进步和立异。
聪明的企业，例如ASML，前面传言连14nm的***都要不卖给我国了，最近，他们赶忙驳斥谣言，称合同将践约履行。
对嘛，能挣钱赶忙先赚了，现在咱们对中低端半导体的制作依然需求很多***，你们乐意卖咱们买没问题。
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